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2009年学会発表

2009 MRS Fall Meeting (Boston, MA, Nov 30-Dec 4), 2件

タイトル (講演番号)/著者/所属
Transport Properties and Electronic States of Anatase Ti1-xWxO2 Epitaxial Thin Films (H9.3)
Akira Chikamatsu1, Utahito Takeuchi1, Taro Hitosugi2,3, Hiroshi Kumigashira4, Masaharu Oshima4, Yasushi Hirose1,3, Toshihiro Shimada1,3 and Tetsuya Hasegawa1,3
1Depertment of Chemistry, The University of Tokyo; 2Advanced Institute for Materials Research, Tohoku University; 3Kanagawa Academy of Science and Technology; 4Department of Applied Chemistry, The University of Tokyo
TiO2-based transparent conducting oxide for GaN light emitting diodes ()
T. Hitosugi, J. Kasai, M. Moriyama, K. Goshonoo, S. Nakao, N. Yamada and T. Hasegawa
Advanced Institute for Materials Research, Tohoku University, Kanagawa Academy of Science and Technology, Depertment of Chemistry, The University of Tokyo

第39回結晶成長国内会議 (名古屋大学豊田講堂・シンポジオン, 11月)

12aA04 有機半導体の気流中結晶成長のその場観察と精密制御
東大理
宮本佐和子, 島田敏宏, 伴真名歩, 長谷川哲也
13PS18 液体フラックス蒸着法による薄膜結晶成長
東大・理
島田敏宏, 石井由威, 宮本佐和子, 長谷川哲也
13PS19 有機半導体の気流中昇華プロセスの分子動力学シミュレーション
東大・理
島田敏宏, 大伴真名歩, 宮本佐和子, 長谷川哲也

有機EL討論会 第9回例会 (京都大学 宇治キャンパス, 11月)

S9-7 有機EL発光の高磁場効果
東京大学大学院理学系研究科
後藤雄一郎, 島田敏宏, 長谷川哲也

第29回 表面科学 学術講演会 (タワーホール船堀, 10月)

1P01 ルチル型TiO2(110)ステップ基板の表面構造観察
1)東北大WPI-AIMR、2)東大理
清水亮太, 一杉太郎, 長谷川哲也, 橋詰富博

2009 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM 2009) (Sendai Kokusai Hotel, Miyagi, 10月)

F-2-8L Electric double layer gate FETs based on silicon
1Univ. of Tokyo and 2CREST-JST
T. Yanase, T. Shimada and T. Hasegawa

日本物理学会 2009年秋季大会 (熊本大学黒髪キャンパス, 9月), 4件

25pZK-3 有機半導体のエピタキシャル成長と温度可変・角度分解光電子分光
東大院理
島田敏宏
26aPS-6 走査トンネル分光で見るBi2Sr2-xLaxCuO6+δにおける2つのエネルギーギャップ
東理大理,東大院理
中村浩士,加藤拓也,舟橋宏直,藤本将生,町田理,坂田英明,中尾祥一郎,長谷川哲也
26pRK-6 Bi2Sr2-xLaxCuO6+δの磁場中走査トンネル分光
東理大理,東大院理
加藤拓也,舟橋宏直,中村浩士,藤本将生,町田理,坂田英明,中尾祥一郎,長谷川哲也
26pXA-2 硬X線光電子分光によるCo:TiO2/LaTiO3二層膜の研究
理研/SPring-8,東大物性研,JASRI/SPring-8,東大理,神奈川科技アカデミー
大槻匠,A.Chainani,高田恭孝,松波雅治,江口律子,西野吉則,玉作賢治,矢橋牧名,石川哲也,長谷川哲也,辛埴

2009年秋季 第70回 応用物理学会学術講演会 (富山大学, 9月)

9p-F-18 アモルファスカーボン薄膜の超高温加熱処理: 表面形状の変化
東大・理1, 坂口電熱R&D2
○(D)野口卓也1, 島田敏宏1, 千葉貴史2, 寺田昌男2, 長谷川哲也1
8a-H-9 アナターゼ型Ti1-xNbxO2薄膜のキャリア生成機構
東大理1, 東大工2, JST-CREST3, 東北大WPI-AIMR4, KAST5
能川玄之1, 近松 彰1, 組頭広志2,3, 尾嶋正治2,3, 一杉太郎4,5, 廣瀬 靖1,5, 島田敏宏1,5, 長谷川哲也1,5
8a-H-10 アナターゼ型LixTiO2エピタキシャル薄膜の電気輸送特性
東大院理1, KAST2
竹内詩人1, 近松 彰1, 廣瀬 靖1,2, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2
9p-H-15 単結晶押し付け法による非晶質基板上への2軸配向薄膜形成(2)
東大院理1, KAST2
廣瀬 靖1,2, 木村賢一1, 長谷川哲也1,2
10p-H-7 軟X線吸収分光による無限層構造SrFeO2薄膜の電子構造
東大院理1, KEK2, KAST3
松山敏也1, 近松 彰1, 雨宮健太2, 能川玄之1, 坂井延寿3, 廣瀬 靖1,3, 島田敏宏1,3, 長谷川哲也1,3
10p-H-21 EuTiO3エピタキシャル薄膜の磁気誘電効果
東大院・理1, KAST2, 東北大WPI-AIMR3
○(D)畑林邦忠1, 廣瀬 靖1,2, 近松 彰1, 中尾祥一郎1,2, 山田直臣2, 一杉太郎2,3, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2
11a-H-6 低赤外吸収・高移動度Ta:SnO2透明導電膜
KAST1, 東大院理2, 東北大3
中尾祥一郎1,2, 山田直臣1, 一杉太郎1,3, 廣瀬 靖1,2, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2
9p-ZA-6 有機分子の昇華プロセスの計算機シミュレーション(1)
東大・理
島田敏宏, 大伴真名歩, 長谷川哲也
8a-ZE-1 固体ソース大気圧CVDによる半導体ナノワイヤの成長
東大・理1, 北大・工2
○(M1)宮本佐和子1, 島田敏宏1, 廣瀬 靖1, 米澤 徹2, 長谷川哲也1
11a-J-2 PLD法によるアナターゼ型F:TiO2薄膜の作製
東大院理1, KAST2, 東北大3
毛利 聖1,2, 廣瀬 靖1,2, 中尾祥一郎1,2, 山田直臣2, 一杉太郎2,3, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2
11a-J-3 Ca2Nb3O10ナノシート上へ成長させたc軸配向アナターゼ型Ti0.94Nb0.06O2(TNO)透明導電膜
神奈川科学技術アカデミー1, 物財機構2, CREST3, 東大院理4, 東北大WPI-AIMR5
山田直臣1, 柴田竜雄2,3, 平 建治3,4, 廣瀬 靖1,3,4, 一杉太郎1,5, 中尾祥一郎1,4, ゴク ラン フン ホァン1,4, 島田敏宏1,4, 佐々木高義2,3, 長谷川哲也1,3,4
11a-J-4 無機ナノシートを用いたアナターゼ型NbドープTiO2透明導電膜の配向制御
東大院理1, KAST2, CREST3, NIMS4
○(M1)平 健治1,3, 廣瀬 靖1,2,3, 山田直臣2, 中尾祥一郎1,2, 柴田竜雄3,4, 佐々木高義3,4, 小暮敏博1, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2,3

The 37th Fullerene-Nanotubes General Symposium (FNTsympo37), Epocal Tsukuba (Ibaraki), Sep

タイトル (講演番号)/著者/所属
Nano-graphitization and mesoscopic large corrugation of amorphous carbon thin films by high temperature post-annealing (3P-46)
Takuya Noguchi, Toshihiro Shimada, Takashi Chiba, Masao Terada, Tetsuya Hasegawa
Dept. Chemistry, University of Tokyo and R&D Center, Sakaguchi E.H VOC Corporation

The 3rd International Conference of New Diamond and Nano Carbons (NDNC2009), Grand Traverse Spa & Resort (Traverse City, MI), June

PB3.14 Solid-phase growth of graphitic carbon films on single crystalline oxide substrates
Takuya Noguchi, Toshihiro Shimada, Takashi Chiba, Masao Terada, and Tetsuya Hasegawa

European Materials Research Society 2009 (E-MRS 2009) Spring Meeting, Strasbourg, France, Jun), 1件

Properties of TiO2-based transparent conducting oxide (Symposium F)
T. Hitosugi, N. Yamada, S. Nakao, Y. Hirose and T. Hasegawa
Kanagawa Academy of Science and Technology (KAST), Advanced Institute for Materials Research (WPI-AIMR), Tohoku University, Department of Chemistry, The University of Tokyo

ナノ学会 第7回大会(東京大学 本郷キャンパス(浅野地区) 武田先端知ビル 武田ホール, 2009年5月9日~11日)

S4-5 「金/ペンタセン/金-ナノ接合におけるコンダクタンスノイズの量子化」
木平由紀(1)、島田敏宏(1)、長谷川哲也(1) :(1)東京大学

6th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics (TOEO-6), Tokyo Fashion Town Building, Tokyo, Japan, April 15-17, 2009

15p-P059
A276
Fabrication of highly conductive Ta-doped SnO2polycrystalline films on glass substrates using seed layer by pulsed laser deposition
Shoichiro Nakao1,2*), Taro Hitosugi1,3), Naoomi Yamada2), Yasushi Hirose1,2), Toshihiro Shimada1,2)and Tetsuya Hasegawa1,2)
1)Kanagawa Academy of Science and Technology(KAST),Japan
2)Department of Chemistry, University of Tokyo, Japan
3)Advanced Institute for Materials Research, Tohoku University, Japan
16a-O002
A50
Properties of TiO2-based transparent conductor
Taro Hitosugi1,2,*), N. Yamada1), S. Nakao1)and T. Hasegawa1,3)
1)Kanagawa Academy of Science and Technology (KAST), Kawasaki, 213-0012, Japan
2)Advanced Institute for Materials Research (WPI-AIMR), Tohoku University, Sendai, 980-8577, Japan
3)Department of Chemistry, The University of Tokyo, Tokyo, 113-0033, Japan
16p-P145
A150
Transparent conducting Nb-doped anatase TiO2(TNO) thin films sputtered from various oxidation state targets
Naoomi Yamada1,*), Taro Hitosugi1, 2), Junpei Kasai1), N. L. H. Hoang1, 3), Shoichiro Nakao1, 3), Yasushi Hirose1, 3), Toshihiro Shimada1, 3)and Tetsuya Hasegawa1, 3)
1)Kanagawa Academy of Science and Technology (KAST), JAPAN
2)WPI Advanced Institute for Materials Research, Tohoku University, JAPAN
3)Department of Chemistry, University of Tokyo, JAPAN

2009年春季 第56回 応用物理学関係連合講演会(筑波大学筑波キャンパス, 3月)

30a-P2-8 シード層導入による低抵抗多結晶Ta:SnO2透明導電薄膜の作製
KAST1, 東大院理2, 東北大3
中尾祥一郎1,2, 一杉太郎1,3, 山田直臣1, 廣瀬 靖1,2, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2
31a-P7-4 真に原子レベルで平坦なルチルTiO2(110)基板の作製
東北大WPI-AIMR1, 東大院理2
清水亮太1,2, 一杉太郎1, 中山幸仁1, 櫻井利夫1, 白岩 学2, 長谷川哲也2
31a-P7-24 単結晶押し付け法による非晶質基板上への2軸配向薄膜形成
東大院理1, 神奈川科学技術アカデミー2
廣瀬 靖1,2, 奥本高行1, 木村賢一1, 長谷川哲也1,2
31a-P7-25 PLD法による層状ペロブスカイト構造Sm2Ti2O7エピタキシャル薄膜の作成
東大院理1, 神奈川科学技術アカデミー2
○(M1)大野紗和子1, 畑林邦忠1, 廣瀬 靖1,2, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2
31a-P7-28 スピネルフェライト(Zn,Co)Fe2O4コンポジションスプレッド薄膜の磁気光学特性
JFEミネラル1, 東北大金研2, JST-さきがけ3, 東大院理4, KAST5, 東北大WPI材料機構6, JST-CREST7
岩崎洋介1, 福村知昭2,3, 木村久道2, 大久保昭2, 長谷川哲也4,5, 廣瀬 靖4,5, 牧野哲征6, 上野和紀6, 川崎雅司2,6,7
1a-P12-13 アナターゼ型Nb ドープTiO2(TNO)透明導電膜の光学的輸送特性
神奈川科学技術アカデミー1, 東北大原子分子材料科学高等研2, 東大院理3
山田直臣1, 一杉太郎1,2, 廣瀬 靖1,3, 中尾祥一郎1,3, Hoang Ngoc Lam Huong1,3, 島田敏宏1,3, 長谷川哲也1,3
1a-P12-15 アナターゼ型Ti1-xNbxO2薄膜の電気伝導性と電子状態
東大理1, 東大工2, JST-CREST3, 東北大WPI-AIMR4, KAST5
能川玄之1, 近松 彰1, 組頭広志2,3, 尾嶋正治2,3, 一杉太郎4,5, 廣瀬 靖1,5, 島田敏宏1,5, 長谷川哲也1,5
1a-P12-26 LaSrAlO4(001)基板上へ成長したアナターゼCoxTi1-xO2-δ薄膜の輸送特性と磁性
東大院理1, KAST2
池宮 桂1, 廣瀬 靖1,2, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2
2a-P16-30 EuTiO3エピタキシャル薄膜の磁気・誘電特性
東大院理1, KAST2, 東北大WPI-AIMR3
○(D)畑林邦忠1, 廣瀬 靖1,2, 程 向前1, 一杉太郎2,3, 島田敏宏1,2, 長谷川哲也1,2
1p-ZH-6 LiMnO2(α-NaFeO2構造) 薄膜のエピタキシャル成長
東大院理1, 東北大2, KAST3
鶴浜哲一1, 一杉太郎2,3, 廣瀬 靖1,3, 近松 彰1, 島田敏宏1,3, 長谷川哲也1,3
1p-W-5 気流中昇華法による有機半導体単結晶成長のその場観察
東大・理
島田敏宏, 大伴真名歩, 宮本佐和子, 近松 彰, 長谷川哲也
1p-W-6 テトラセン単結晶表面からの分子昇華機構
東大・理
島田敏宏, 大伴真名歩, 近松 彰, 長谷川哲也
31a-ZA-1 有機半導体における磁気抵抗-有機EL における強磁場効果の原因を探る
東大理院
後藤雄一郎, 野口卓也, 竹内詩人, 畑林邦忠, 廣瀬 靖, 島田敏宏, 長谷川哲也
31a-ZA-10 金‐ペンタセン‐金ナノ接合におけるコンダクタンスゆらぎの量子化 (II)
東大理
○(M1)木平由紀, 島田敏宏, 長谷川哲也
30p-ZK-6 TiO2薄膜へのドーピングによる機能発生(25分)
東大院理1, KAST2
長谷川哲也1,2

日本物理学会 第64回年次大会 (立教大学, 3月)

27pPSA-26 Bi2Sr2-xLaxCuOyの走査トンネル分光
東理大理, 東大院理A
加藤拓也, 舟橋宏直, 中村浩士, 藤本将生, 坂田英明, 中尾祥一郎A, 長谷川哲也A
30pTL-1 アナターゼ型Ti1-xWxO2エピタキシャル薄膜の電気輸送特性と電子状態
東大院理, 東北大WPI材料機構A, KASTB, 東大院工C
竹内詩人, 一杉太郎A, B, 鶴浜哲一, 近松彰, 組頭広志C, 尾嶋正治C, 島田敏宏, 長谷川哲也

The 36th Fullerene-Nanotubes General Symposium (FNTsympo36), Meijo University (Japan), March

タイトル (講演番号)/著者/所属
New Carbon Thin Film Growth on YSZ (111) by Very High Temperature Surface Pyrolysis of C60 (3P-23)
Takuya Noguchi, Toshihiro Shimada, Akinori Hanzawa, Tetsuya Hasegawa
Dept. Chemistry, University of Tokyo